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聚焦离子束显微镜FIB-SEM的详细介绍
发布日期:2021-09-20 15:49   来源:未知   阅读:

  今晚特马开奖结果,成为FIB-SEM双束系统后,通过结合相应的气体沉积装置,纳米操纵仪,各种探测器及可控的样品台等附件成为一个集微区成像、加工、分析、操纵于一体的分析仪器。其应用范围也已经从半导体行业拓展至材料科学、生命科学和地质学等众多领域。为方便客户对材料进行深入的失效分析及研究,金鉴实验室现推出Dual Beam FIB-SEM业务,并介绍Dual Beam FIB-SEM在材料科学领域的一些典型应用,包括透射电镜(M)样品制备,材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积以及材料三维成像及分析等。

  使用FIB可以切一样品薄片厚度(30-50nm),取出以后,然后用带有EDS/EELS探测器的TEM/STEM对其成像同时测量其化学性质。

  Helios NanoLab 450S是高通量、高分辨率TEM制样、成像和分析的理想选择。

  其独有的可翻转样品台和原位STEM探测器可以在几秒钟内从制样模式翻转到样品成像模式,且无需破真空或将样品暴露在环境中。

  超高分辨率聚焦离子束扫描电子显微镜,可进行高质量样品制备和3D表征。通过将Scios 2 DualBeam的最新技术创新与可选配的、易使用的、全面的 Thermo ScienTIfic AutoTEM 4软件以及赛默飞世尔科技的应用专业知识相结合,可快速方便地制备用于多种材料的现场指定高分辨率 S/TEM样品。

  对比与传统的电解双喷,离子减薄方式制备TEM样品,FIB可实现快速定点制样,获得高质量TEM样品。

  样品制备是T EM分析技 术中非常重要的一环,但由于 电子束的穿透力很弱,因此用 于TEM的样品必须制备成厚度 约为0.1μm的超薄切片。要将 样品切割成如此薄的切片,许 多情况下需要用到FIB(Focus Ion Beam,聚焦离子束) 进 行TEM样品的制备。

  SEM仅能观察材料表面信息,聚焦离子束的加入可以对材料纵向加工观察材料内部形貌,通过对膜层内部厚度监控以及对缺陷失效分析改善产品工艺,从根部解决产品失效问题。

  利用FIB对键合线进行截面制样,不仅可以观察到截面晶格形貌,还可掌控镀层结构与厚度。

  金鉴实验室FIB-SEM产品工艺异常或调整后通过FIB获取膜层剖面对各膜层检查以及厚度的测量检测工艺稳定性。

  利用FIB切割支架镀层,避免了传统切片模式导致的金属延展、碎屑填充、厚度偏差大的弊端,高分辨率的电镜下,镀层晶格形貌、内部缺陷一览无遗。

  FIB-SEM扫描电镜下观察支架镀层截面形貌,镀层界限明显、结构及晶格形貌清晰,尺寸测量准确。此款支架在常规镀镍层上方镀铜,普通制样方法极其容易忽略此层结构,轻则造成判断失误,重则造成责任纠纷,经济损失!

  FIB-SEM扫描电镜下观察支架镀层截面形貌。此款支架在镀铜层下方镀有约30纳米的镍层,在FIB-SEM下依然清晰可测!内部结构、基材或镀层的晶格、镀层缺陷清晰明了,给客户和供应商解决争论焦点,减少复测次数与支出。

  利用电子束或离子束将金属有机气体化合物分解,从而可在样品的特定区域进行材料沉积。本系统沉积的材料为Pt,沉积的图形有点阵,直线等,利用系统沉积金属材料的功能,可对器件电路进行相应的修改,更改电路功能。

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